VVL-4000全譜直讀光譜儀適用于固定金屬基體材料的定量分析及牌號鑒別。VL-4000采用吹氬式光譜系統(tǒng)、專用檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。開放式火花激發(fā)臺適合不同形狀和尺寸的樣品分析。
VVL-4000全譜直讀光譜儀適用于固定金屬基體材料的定量分析及牌號鑒別。VL-4000采用吹氬式光譜系統(tǒng)、專用檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。開放式火花激發(fā)臺適合不同形狀和尺寸的樣品分析。
技術領先
VL-4000直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設計,可確保對重要元素的精確鑒定和痕量分析,儀器擁有極低的檢出限及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性;分析結果準確,重現(xiàn)性好。
創(chuàng)想儀器運用檢測器與數(shù)字讀出技術相結合,使儀器整體設計優(yōu)于傳統(tǒng)的光電倍增管技術,已逐漸成為金屬制造業(yè),加工業(yè)及鑄造業(yè)的重要選擇。
優(yōu)質(zhì)的光學系統(tǒng)
VL-4000直讀光譜儀采用了全新的光學系統(tǒng)設計,其中結合了帶優(yōu)化像素分辨率測器技術,光柵分光技術,代表了新的直讀光譜技術。
各個元素分別采用多條譜線分析綜合輸出,動態(tài)范圍大,結果準確。放置的探測器滿足分析波段內(nèi)的所有譜線接收無一遺漏,實現(xiàn)同一元素多條譜線同時測定,自動選擇輸出。
方便的實時校正
VL-4000光譜儀在每次激發(fā)時,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。全譜技術自動描跡調(diào)整光路,激發(fā)樣品時,儀器自動識別每塊檢測器上的特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。消除因溫度、氣壓、震動等變化而產(chǎn)生的光譜漂移;而傳統(tǒng)使用光電倍增管技術的光譜必須進行手動進精細調(diào)節(jié),技術要求很高。全譜技術自動快速尋址,避免了費事費力的手動操作,也避免了人為誤差。
靈活的全譜直讀
VL-4000光譜儀采用全譜直讀技術,儀器可以非常方便增加譜線,增加基體,在不添加硬件設施的情況下,即可實現(xiàn)多基體分析。客戶可以在使用過程中根據(jù)實際需要在儀器上增加分析的基體及元素種類,這些工作可以在用戶現(xiàn)場方便完成。相比同類采用PMT技術的光譜儀,則需要大范圍改動硬件。同時由于初始儀器的配置限制,可能無法添加客戶要求的基體或元素。
可靠的火花臺
VL-4000光譜儀的火花臺進行了全新設計,除保留了傳統(tǒng)火花臺的優(yōu)勢外,針對新的應用需求作了相應的優(yōu)化。整個火花臺的結構堅固,在儀器持續(xù)使用高溫火花激發(fā)的情況下VL-4000光譜儀的火花臺通過結構設計上的變化改進了氬氣流的噴射方向,大大減少了火花激發(fā)在火花臺上的殘留,使火花臺的清潔和維護變得簡單。VL-4000光譜儀保留了開放式樣品臺的設計,使樣品的放置及分析更加簡便,樣品處理也比傳統(tǒng)光譜更加簡單。除電極間隙外,無特別調(diào)整要求。保持火花臺結構的穩(wěn)定。
獨特的氬氣噴射技術
VL-4000光譜儀采用了獨特的噴射電極技術(JET STREAM)。在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流。這種技術會帶來以下優(yōu)勢:激發(fā)點周圍的氬氣流保證了激發(fā)過程不受外界干擾。節(jié)省了氬氣的使用,降低了客戶的使用成本。樣品臺無須密封,線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進行分析。
簡潔的入射光路
VL-4000光譜儀的入射光路設計簡潔。通過將入射光路與光室系統(tǒng)直接連接,兩道透鏡入射窗口確?;覊m與防護獨立分開,維護清洗變得非常方便,客戶可以在日常工作中自行進行操作;VL-4000光譜儀的電路系統(tǒng)進行了全新的設計。光譜儀采用了同步實時數(shù)字讀出技術,與傳統(tǒng)的順序讀出技術相比,分析時間和數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性都會大大提高。
強大的電路系統(tǒng)
VL-4000光譜儀采用了全數(shù)字等離子火花光源技術。所有的激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置。 VL-4000光譜儀將電路系統(tǒng)與光學系統(tǒng)進行了完全的分離,將電路系統(tǒng)統(tǒng)一置于儀器光室的外部分,這樣的設計使儀器的散熱功能大大提升,同時使儀器的后續(xù)維護也十分便捷。
智能的操作軟件
VL-4000光譜儀的操作軟件十分簡單易學,全中文或英文菜單。沒有任何光譜儀器知識背景的操作人員只需簡單培訓,就可進行儀器的使用。
經(jīng)濟型充氬光室全譜光譜分析儀,儀器集成度高,性能穩(wěn)定;
簡約優(yōu)雅的外觀設計,超高性價比。
激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光能量損耗。
HEPS數(shù)字化火花光源,極大地提高了光源系統(tǒng)的放電穩(wěn)定性,適應不同材料的分析需要。
高端ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理,20s即可完成一次檢測。擴展曲線,增加基體無需改變硬件。
低能耗設計,耗電量少、氬氣消耗低。
光譜儀光學系統(tǒng)
帕邢-龍格結構,羅蘭圓光學系統(tǒng)
光室溫度:自動控制恒溫:34℃±0.2℃
外部入射窗口,方便清洗及更換
優(yōu)秀的漂移校正功能得益于自動尋峰技術(精確度達到0.1像素)
優(yōu)良的紫外波段靈敏度,得益于全新的檢測器
數(shù)字等離子發(fā)生器
全數(shù)字等離子火花光源技術
高效得益于緊湊的設計和半導體控制技術
高能預燃技術(HEPS)
激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置
優(yōu)化的樣品臺
開放式樣品臺設計,滿足大樣品測試要求
3.4mm樣品臺分析間隙
“噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
低氬氣消耗,待機時無須待機流量
可定制異形樣品適配器
不同基體無須更換火花臺
優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)
牢固的銅合金樣品臺散熱效果良好
計算機
品牌電腦
主機:一體機型
內(nèi) 存:8G
硬 盤:>250GB
顯示器:23.6寸液晶顯示器
讀出系統(tǒng)
數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲
可接駁各種標準打印設備
數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程發(fā)送傳輸
軟件系統(tǒng)
Windows操作系統(tǒng)
中文或英文光譜儀操作軟件
可選數(shù)據(jù)維護程序
氬氣要求
純氬氣,99.999%; 氬氣減壓閥(專用減壓閥)
氣壓>4MPa; 出口儀器氣壓0.5MPa
電源要求
AC220V/50Hz
最大功率450W (主機420W,電腦30W)
待機功率60W
16A慢熔保險絲
尺寸
尺寸:長759mm,寬665mm,高391mm
重量:48kg
注:數(shù)據(jù)僅供參考,具體按客戶要求配置。